Latar Belakang
Objektif
Projek ini bertujuan untuk mengoptimumkanantibakteriapenapisan larutandengan memilih yang paling sesuaihelaian penapis untuk penjernihan cecair, memastikan:
●Pengurangan kekeruhan yang ketara
●Kadar pemulihan yang tinggi
●Prestasi penapisan yang stabil dan cekap
Penyelesaian: Penapisan Kedalaman dengan Helaian Penapis Dioptimumkan
Menggunakan lanjutanteknologi penapisan kedalaman, dua jenismikroporouspenapishelaiantelah dinilai:
●SCP-336(0.2–0.4 µm)
●SCH-690(0.1–0.2 µm)
Proses penapisan telah dijalankan menggunakansistem penapisan plat dan bingkai, memastikan prestasi yang konsisten dan boleh diskala untuk aplikasi perindustrian.
Keputusan: Pengurangan Kekeruhan Berkecekapan Tinggi
●SCP-336PenapisHelaian
○Kekeruhan dikurangkan daripada 37.9 kepada 0.39
○Penambahbaikan kejelasan:98.97%
●SCH-690PenapisHelaian
○Kekeruhan dikurangkan daripada 37.9 kepada 0.52
○ Penambahbaikan kejelasan:98.62%
●Kapasiti Penapisan
○Lebih 2 L filtrat dicapai di bawah keadaan skala makmal
Kesimpulan: Helaian Penapis Terbaik untuk Penjernihan Cecair
Kedua-dua pilihan memberikan keputusan yang kukuh dalamsistem penapisan cecair perindustrian, dengan kadar pemulihan melebihi 98.5%.
Walau bagaimanapun,SCP-336terbukti sebagai pilihan terbaik untuk:
●Peningkatan kejelasan yang unggul
●Kecekapan penapisan yang lebih tinggi
●Skalabiliti yang lebih baik untuk pengeluaran
Nilai Industri
Kes ini memberikan bukti yang terbuktipenyelesaian penapisan untuk industri wangian, menunjukkan bahawa dioptimumkanpenapishelaian untuk penjernihan cecairboleh:
●Tingkatkan penampilan produk
●Mengekalkan bahan aktif
●Meningkatkan kecekapan pengeluaran
●Memenuhi piawaian kualiti yang lebih tinggi
Masa siaran: 9-Apr-2026

